四氟化硅-28/29/30（²⁸ˡ²⁹ˡ³⁰SiF₄
广泛用于第二次量子系统的开发和生产，包括半导体量子计算机芯片和量子传感器。
氢氧化锂-7（⁷LiOH）
在压水推（核裂变堆）的主冷却剂中用来维持水的化学性质，中和硼酸（种子吸收剂）的腐蚀性，将压水
氟化锂-7（⁷LiF）
化学性质异常稳定，⁷LiF-BeF₂共晶混合物（熔点约为459℃）在熔盐堆的主要冷却回路中用
乙硼-11烷（¹¹B₂H₆）
乙硼-11烷可在微电子、平板显示、太阳能电池、LED、光纤、医药、核电等领域应用，也可用作聚
硼-11酸三乙酯（TEB-11）
电子级硼-11酸三乙酯主要用于晶圆制造的沉积工艺中形成硼酸硅玻璃（BPSG）。硼酸硅玻璃即掺
硼-11粉（¹¹B）
由于¹¹B对热中子的吸收截面较小的性质，是半导体芯片材料的优质掺杂剂、扩散剂。¹¹B作为掺杂
硼-11酸（¹¹B(OH)₃）
¹¹B对热中子的吸收截面较小，主要应用于半导体制造行业。硼-11酸作为¹¹B的载体，广泛用于
六方氮化硼-10化镁（h-¹⁰BN）
六方氮化硼-10可在纳米尺度实现对光的控制和操作，有望加速光学器件向高效化、小型化方向发展，
二硼-10化镁（Mg¹⁰B₂）
二硼-10化镁可支撑薄膜和线材，能够用于制造CT扫描仪等多种电子仪器仪表，也可制造超级电子计
四氟硼-10酸钾（K¹⁰BF₄）
10B对热中子的吸收截面大，在核工业技术领域及核药领域（BNCT-硼中子捕获疗法）中扮演着至
二硼-10化锆（Zr¹⁰B₂）
10B富集的ZrB2靶材可用于制备AP1000反应堆燃料元件整体型可燃毒物吸收体 （IFBA
三氟化硼-11（¹¹BF₃）
11B对热中子的吸收截面较小，主要应用于半导体制造行业。天然丰度高纯BF，气体是贵和锗外延、
硼-10酸（¹⁰B(OH)₃）
压水堆核电厂中，为了控制启动、负荷跟踪下的堆芯反应性及补偿燃耗变化带来的反应性损失，反应堆冷
碳化硼-10（¹⁰B₄C）
碳化硼-10硬度仅次于金刚石和立方氮化硼，主要用作原子反应堆中中子控制和屏蔽材料，化学工艺和
硼-10粉（¹⁰B）
硼-10粉是制备¹⁰B4C、¹⁰BN及卤化硼-10等硼-10化物的重要原料。含硼1%~2%的
